Tuotteet hakusanalla teräksen kanssa (1)

ALD (Atomic Layer Deposition, suomeksi atomikerrospinnoitus) on prosessi, joka mahdollistaa ohuiden materiaalikerrosten tallettamisen tyhjössä kaasuesiasteiden avulla. Käsiteltävät osat asetetaan tyhjökonetta. Kun esiaste A on tuotu, se tallettuu käsiteltävien osien pinnalle, minkä jälkeen esiaste B tuodaan ja reagoi ensimmäisten talletettujen atomien kanssa muodostaen ensimmäisen atomikerroksen. Tätä sykliä toistetaan, kunnes haluttu paksuus saavutetaan. Talletuslämpötila on 150–200 °C. Edut Täydellinen muotoutuvuus Erinomainen homogeenisuus 3D-osissa Pinnoitteen toistettavuus Paksuuden hallinta nanomittakaavassa Hyvä kemiallinen vakaus Erinomainen este kerros Saasteeton teknologia